ナノリソグラフィーのためのブロック共重合体自己組織化薄膜の構造制御(自己組織化技術,有機材料一般)
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概要
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ナノリソグラフィー技術として、ブロック共重合体の自己組織化現象により発現する数十ナノメーターオーダーのミクロドメインをエッチングマスクとして利用する試みが注目されている。ミクロドメインをエッチングマスクとして適用する場合、適度なアスペクト比を有するシリンダー状ミクロドメインが基板に対して垂直に配向した状態で規則正しく整列した構造を用いることが望ましい。本報告ではシリンダー状ミクロドメインの配向制御法について概説するとともに、ブロック共重合体にホモポリマーあるいは分子量の異なるブロック共重合体を混合することによりシリンダー状ミクロドメインの垂直配向が得られるという現象について報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-10-19
著者
-
竹中 幹人
京都大学工学研究科
-
長谷川 博一
京都大学大学院工学研究科高分子化学専攻
-
吉田 博史
株式会社日立製作所材料研究所
-
赤坂 哲
京都大学工学研究科
-
陳 楓
京都大学工学研究科
-
長谷川 博一
京都大学工学研究科
-
竹中 幹人
京都大学工学研究科高分子科学専攻
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