804 平板後縁近傍乱流境界層の発達に及ぼすスプリッター板の影響(OS8-1 複雑乱流の計測と制御(境界層),OS8 複雑乱流の計測と制御,オーガナイズドセッション)
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概要
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- 社団法人日本機械学会の論文
- 2005-10-28
著者
-
大坂 英雄
山口大学工学部
-
一宮 昌司
徳島大学工学部
-
大坂 英雄
山口大学大学院理工学研究科
-
上代 良文
高松工業高等専門学校
-
高橋 義一
高松工業高等専門学校機械工学科
-
一宮 昌司
徳島大
-
上代 良文
高松高専
-
高橋 義一
高松高専
-
大坂 英雄
山口大・工
-
大阪 英雄
山口大学工学部
-
大坂 英雄
山口大
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