クリーンルームの汚染防止からみた有機系ガスの実測
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概要
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This study investigated organic compounds in a cleanroom air and those on silicon (Si) wafer surfaces using gas chromatograph (GC), GC-mass spectroscopy (GC-MS) and thermal desorption-atmospheric pressure ionization MS (TD-APIMS). As a first step, organic compounds adsorbed on the surfaces of Si wafer were qualified by TDAPIMS. Furthermore, quantities of organic gas species in the cleanroom air were measured and contributions of cleanroom materials to the airborne organic species were evaluated Organic species outgassed from wafer carriers were analyzed by the head space method. Through the analyses of GC and GC-MS, we attempted to clarify whether cleanroom materials were emission sources of organic gas species in the cleanroom.
- 社団法人日本建築学会の論文
- 1997-06-30
著者
-
湯浅 和博
東京工業大学
-
藤井 修二
東京工業大学
-
鍵 直樹
東京工業大学大学院理工学研究科
-
並木 則和
金沢大学工学部
-
並木 則和
工学院大学
-
湯浅 和博
東京工業大学理工学研究科建築学専攻
-
湯浅 和博
東京工大
-
並木 則和
金沢大学工学部物質化学工学科
-
鍵 直樹
東京工業大学
-
藤井 修二
東京工業大学大学院
-
並木 則和
工学院大学工学部
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