PB22 真空紫外光照射によるメソポーラスシリカ薄膜のフォトパターニング(2004年日本液晶学会討論会)

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概要

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• Mesoporous silica (MPS) precursor films containing a polymer template were photochemically micropatterned by means of ultraviolet (VUV) irradiation. The resulting 10-μm-width micropatterns consisted of MPS and MPS precursor regions. We further modified the latter surfaces using a fluoroalkylsilane. Due to this site-selective hydrophobization, rhodamine 6G molecules dissolved in water were successfully doped selectively into the irradiated MPS regions, as evidenced by absorption and fluorescence spectroscopy, and fluorescence microscope observation.

• 日本液晶学会の論文
• 2004-09-26

著者

• 永野 修作

  名大院工応化

• 関 隆広

  名大院工応化

• 関 隆広

  名大院工

• 穂積 篤

  産総研・サステナブル

• 関 隆広

  名古屋大学大学院工学研究科物質制御工学専攻

• 穂積 篤

  産総研

• 小島 智之

  名大院工

• 永野 修作

  名大院工

• 永野 修作

  名古屋大学大学院工学研究科物質制御工学専攻

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