銅フタロシアニン薄膜の触針表面粗さ計による表面プロファイル
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概要
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We deposited copper phthalocyanine films on silicon wafers by means of a vacuum deposition method at room temperature. The film thickness was determined the distance between an evaporator and a substrate. X-ray diffraction measurements showed that the film was formed with a two-layer structure. We recognized two different types of surface profiles depending on the thickness.
- 明石工業高等専門学校の論文
- 2004-12-15
著者
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