In-Depth Distribution of Stacking Faults in Thermally-Oxidized Czochralski Silicon Wafers

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1979-10-05

著者

• SHINOYAMA Seiji

  Ibaraki Electrical Communication Laboratory, Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation

• Shinoyama Seiji

  Ibaraki Electrical Communication Laboratory Nippon Telegraph And Telephone Public Corporation

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