Reaction of Hydrogen Fluoride Gas at High Temperatures with Silicon Oxide Film and Silicon Surface

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1998-11-15

著者

• Otsuka T

  Samsung Electronics Co. Ltd. Kyungki‐do Kor

• Otsuka Toru

  Isobe R&d Center Shin-etsu Handotai Co. Ltd.

• Habuka Hitoshi

  Isobe R&d Center Shin-etsu Handotai Co. Ltd.

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