Comparative Equilibrium Analysis of Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) GaAs Growth Using Trimethylgallium (TMGa) with Arsine or Trimethylarsine (TMAs)
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1992-06-15
著者
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Aguilar M
Tecnologias De Las Comunicaciones E.t.s.i. Telecomunicacion
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Lopez M
Tecnologias De Las Comunicaciones E.t.s.i. Telecomunicacion
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ABRIL Evaristo
Tecnologia Electronica y Bioingenieria, E.T.S.I. Telecomunicacion-U.P. Madrid, Ciudad Universitaria
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ALONSO Alonso
Tecnologia Electronica y Bioingenieria, E.T.S.I. Telecomunicacion-U.P. Madrid, Ciudad Universitaria
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LOPEZ Miguel
Tecnologias de las Comunicaciones, E.T.S.I. Telecomunicacion
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AGUILAR Miguel
Tecnologias de las Comunicaciones, E.T.S.I. Telecomunicacion
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Lopez Miguel
Tecnologias De Las Comunicaciones E.t.s.i. Telecomunicacion
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Abril E
Tecnologia Electronica Y Bioingenieria E.t.s.i. Telecomunicacion-u.p. Madrid Ciudad Universitaria
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Alonso Alonso
Tecnologia Electronica Y Bioingenieria E.t.s.i. Telecomunicacion-u.p. Madrid Ciudad Universitaria
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