G313 斜め方向淀み線流によるエッチング加工法
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概要
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Wet chemical etching is used for making shadow masks that have many microscopic hole in steel sheet. Etching is assumed to be limited by removal of the dissolution products away from the vicinity of the active suface. This paper descibes Wet Chemical Etching by oblique stagnation-point flows. We investigate numerically fluid dynamical aspects and mass transport phenomena nearby the etching cavity.
- 日本流体力学会の論文
- 2001-07-31
著者
-
宮嵜 武
電気通信大学電気通信学研究科
-
宮嵜 武
電通大
-
杉野 文弘
関東学院大学建築設備工学科
-
宮嵜 武
電気通信大学機械制御工学
-
杉野 文弘
日本大学 文理学部
-
Miyazaki Takeshi
Research Information Center Institute Of Plasma Physics Nagoya University:hitachi Ltd. Kodaira
-
西中川 遵
電通大
-
西中川 遵
電通大院
-
Miyamae T
National Inst. Advanced Industrial Sci. And Technol. (aist) Tsukuba Jpn
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