高周波イオンプレーティング法によるSrS : CeCl_3薄膜EL素子の作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1991-01-17
著者
-
高橋 信一
慶応義塾大学理工学部電気工学科
-
栗田 正一
慶応義塾大学理工学部電気工学科
-
栗田 正一
慶応義塾大学
-
菊池 徳文
慶応大
-
島野 嘉治
慶応大
-
上原 貴之
慶応大
-
菊池 徳文
慶応義塾大学理工学部
-
島野 嘉治
慶応義塾大学理工学部
-
上原 貴之
慶応義塾大学理工学部
関連論文
- 主観的輪郭の形成に関する視覚情報処理モデル
- 3K116 a-Siを用いた強誘電性液晶ライトバルブの2次元アレイ動作
- フレネル回折像の相関によるパターン認識 : 光
- 光学的空間フィルタリングにおける入力パターンの変化の影響 : 光
- 10-9 ホログラフィー技術を用いた光ビーム走査(II)
- 読みやすさの観点より求めたCRTディスプレイにおける日本語表示条件
- ホログラフィー技術を用いた光ビーム走査
- 遠近運動に対する視覚情報処理(視覚と画質)
- 遠近方向運動に対する視知覚特性のシミュレーションによる解析(視覚と画質)
- 10-8 液晶を用いた画像変換系
- 薄膜ELの電流依存性 : イオン結晶・光物性
- 蒸着膜EL Cellのパルス特性 : ELシンポジウム
- 視覚情報研究の動向
- 3)a-Siを用いた強誘電性液晶光変調器(情報入力研究会)
- a-Siを用いた強誘電性液晶空間光変調器
- 2B116 a-Si光起電力素子を用いた強誘電性液晶ライトバルブ
- 照明工学と私
- 3)Legibilityの観点より求めたCRTディスプレイにおける日本語表示条件(「視覚と画質」特集)((画像表示研究会(第93回)視覚情報研究会(第67回)画像通信システム研究会(第71回))合同)
- Legibilityの観点より求めたCRTディスプレイにおける日本語表示条件
- 第2回暗視および赤外画像技術国際会議に出席して
- 6-5表示(6.電子デバイス)(テレビジョン年報)
- 暗視および赤外撮像システムの国際会議に出席して
- 4-3 ホログラフィー技術を用いた光ビーム走査(4.光ビーム走査)(画像走査)
- 高周波イオンプレーティング法によるSrS : CeCl_3薄膜EL素子の作製(情報ディスプレイ研究会)(波形等化技術)
- 高周波イオンプレーティング法によるSrS : CeCl_3薄膜EL素子の作製
- プラズマ併用気相輸送法によるZn3P2薄膜太陽電池