プラズマCVD法によるSiON絶縁層を用いた薄膜EL素子
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概要
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- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1989-02-10
著者
-
山下 卓郎
シャープ
-
吉田 勝
シャープ(株)、電子機器事業本部、A1161プロジェクトチーム
-
吉田 勝
シャープ
-
吉田 勝
Nhk
-
中島 重夫
シャープ(株) 中央研究所
-
中島 重夫
シャープ
-
中彌 浩明
シャープ
-
小倉 隆
シャープ
-
中彌 浩明
シャープ(株)中央研究所
-
小倉 隆
シャープ(株)中央研究所
-
山下 卓郎
シャープ(株)中央研究所
-
中島 重夫
シャープ(株)中央研究所
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