ZnS:TbOF薄膜形成用焼結ターゲットの作製および成膜条件の検討 : 情報ディスプレイ
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概要
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スパッタリング法によりZnS=TbOF蛍光薄膜を形成するために、新しい構造の焼結ターゲットを作製した。開発したスパッタターゲットでは、ターゲット本体とバッキングプレートとの間に層間絶縁物が挿入されている。このようなターゲット構造を採用することによって、従来より問題となっていた粉末粒子飛散という現象を回避することが可能になった。さらに、発光層の成膜条件に関する一連の研究を行い、駆動周波数60Hz、しきい値+30Vの動作電圧で、120cd/m^2の発光輝度を有する緑色発光ZnS=TbOF薄膜EL素子の試作に成功した。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1992-10-19
著者
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