大口径KrFレーザーと画像解析の応用(画像変換装置)
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概要
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A beam profile monitoring system has been applied to the analysis of ASE and deposition profile of a high power large aperture KrF laser. The spatial gain distribution measured by the image analysis method agreed very well to the deposition profile calculated by a Monte-Carlo computer simulation. The basic laser parameters, small signal gain, absorption and saturation intensity of 100J class KrF laser system under a high density pumping around lMW/cc was determined as a function of the Kr concentration of the gas mixture.
著者
-
植田 憲一
電気通信大学レーザー新世代研究センター
-
宅間 宏
電気通信大学
-
植田 憲一
電気通信大学 レーザー新世代研究センター
-
佐藤 慶浩
電通大
-
佐藤 慶浩
電気通信大学 新形レーザー研究センター
-
植田 憲一
電気通信大学
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