二次加工した微細溝の形状解析に関する研究

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概要

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• This paper denoted a new type reflector on the micro groove on LCD display. This processing was named as "2nd process",which was the additional processing on the surface prepared as LCD reflector. Micro pattern using the"2nd process"was made by sputtering on the surface which was firstly prepared micro groove on it. Random concavo-convex pattern is made by the filter with the weave of 390 and 500 mesh. The pattern had in nanometer order thickness with crossed line. It was shown that this pattern was useful to prevent the reflection on LCD display.

• 八戸工業大学の論文
• 2005-02-27

著者

• 佐藤 裕哉

  八戸工業大学大学院工学研究科電気電子工学専攻博士後期課程・3年

• 中村 勇夫

  機械システム工学専攻博士後期課程・3年

• 中村 勇夫

  八戸工業大学大学院工学研究科機械システム工学専攻博士後期課程

• 堀井 信宏

  機械システム工学専攻博士前期課程・2年

• 佐藤 松雄

  機械情報技術学科・教授

• 堀井 信弘

  機械システム専攻博士後期課程・3年

• 佐藤 裕也

  電気電子工学専攻博士後期課程・2年

• 関 秀廣

  電気電子工学専攻・教授

• 佐藤 松雄

  機械システム専攻・教授

• 関 秀廣

  大学院工学研究科電気電子工学専攻・教授、青森県地域結集型共同研究事業(jst:独立行政法人科学技術振興機構)

• 関 秀廣

  八戸工業大学工学部電気電子工学科

• 中村 勇夫

  八戸工業大学大学院工学研究科機械システム専攻博士後期課程・3年

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