TC-2-2 Gbit-DRAM用レジスト材料とその光機能性

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 1999-08-16

著者

• 後河内 透

  (株)東芝研究開発センター新機能材料・デバイスラボラトリー主任研究員

• 後河内 透

  (株)東芝研究開発センター先端機能材料ラボラトリー

関連論文

• 半導体LSIの展望と高分子材料への期待
• コンピューター技術を支える化学 : リソグラフィー
• TC-2-2 Gbit-DRAM用レジスト材料とその光機能性
• 吸収帯シフト法と脂環を併用したArFレジスト材料の開発

スポンサーリンク