C-3-89 被覆上照射ファイバグレーティングの温度特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-08-16
著者
-
近藤 克昭
三菱電線工業株式会社
-
今村 一雄
三菱電線工業株式会社
-
今田 善之
三菱電線工業株式会社
-
源地 武士
三菱電線工業(株)
-
中 典生
三菱電線工業株式会社
-
浦松 知史
三菱電線工業株式会社
-
今村 一雄
三菱電線工業株式会社 電子通信研究部
-
源地 武士
三菱電線工業株式会社
関連論文
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- C-3-95 ファイバループミラーを用いたEDFAの検討
- B-10-19 架空スロットレス光ケーブルの開発
- 光ファイバケーブルと同軸ケーブルの耐火試験結果
- 薄肉4心テープ型高密度光ケーブルの特性
- 可視光伝送用シングルモード光ファイバケーブル
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- 光ファイバ配線板の信頼性設計
- B-13-25 WDM対応等間隔ファイバグレーティングの基本特性
- C-3-92 1.53μm付近の励起光を用いた高効率LバンドEDFA
- C-3-58 光ファイバ配線板内の光ファイバ張力評価
- C-3-31 長周期ファイバグレーティングを用いた利得等化器の開発
- B-10-19 多点グレーティングによる光ケーブル内応力分布測定
- C-3-89 被覆上照射ファイバグレーティングの温度特性
- C-3-87 高張力下での被覆上照射による短周期ファイバグレーティングの反射波長特性
- C-3-69 L-band増幅用広帯域利得平坦化EDFAの検討
- C-3-52 照射時張力印加による短周期ファイバグレーティングの反射波長制御
- 高出力ファイバレーザー用Ndドープダブルグラッドファイバの開発
- 高性能デジタル制御型EDFAの開発
- 照射時応力印加による短周期ファイバグレーティングの反射波長制御
- Sn, Ge共ドープファイバグレーティングの動疲労特性
- 被覆上照射によるSn, Ge共ドープファイバグレーティングの特性
- 被覆上照射によるSnドープファイバを用いた長周期グレーティングの作製
- 薄肉8心一括被覆型光ファイバテープの検討
- 被覆上照射に適したファイバグレーティング用被覆材の検討
- たるみ付き自己支持型ファイバケーブルの架線実験
- 高密度多心スロット形可撓性光ファイバケーブルの開発
- 光ファイバハーネスの開発
- 楕円コアEDFの増幅特性
- EDFAによる4波長多重増幅時における利得平坦化の検討
- 高濃度Al共添加Erファイバの小信号増幅特性
- 1.48μm双方向励起EDF増幅特性
- 純石英クラッド分散補償光ファイバ
- B-13-29 光ファイバグリーティングを用いた歪センシング用ケーブル構造に関する検討
- 光ファイバグレーティングを用いた歪センシング用ケーブル構造に関する検討
- EDFシートの開発
- シート状Erドーブファイバ(EDFS)の開発
- 双方向EDFAにおける双方向信号光間クロストークの検討
- 1.47μm励起高性能Er^ドープ光ファイバ増幅器の開発
- 0.98μm励起Erドープファイバ増幅装置の効率に関する検討
- L-band増幅用広帯域利得平坦化EDFAの検討
- たるみ付き自己支持型光ファイバケーブルの特性
- 1.6μm帯波長可変エルビウムドープファイバレーザーの検討
- 1.6μm帯エルビウムドープファイバレーザの検討(2)
- エルビウムドープ偏波保持光ファイバの特性
- La/Al共添加EDFAの2波長等利得増幅に関する検討
- 1.6μm帯エルビウムドープファイバレーザの検討
- 1.48μm双方向励起におけるEDF高出力化検討
- ファイバグレーティングによる光ケーブル内歪み分布測定
- C-3-88 被覆上照射に適したファイバグレーティング用被覆材の検討(2)
- 光通信用ファイバとコンポーネント
- LP-CVD法による光導波路膜の諸特性
- 被覆上照射によるファイバグレーティングの特性
- ファイバ型LD結合光学系の検討