CG Silicon TFT を用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
ガラス基板上にCG Silicon TFTを用いて,世界で初めてCPUを製作し,動作を確認することができた.ガラス基板にはコーニング1737ガラス(転移温度640℃)を用い,全て550℃以下のプロセスで試作を行った.CPUとして8ビット・プロセッサを搭載し,ゲート長2umのルールで試作した.電源電圧5V,動作周波数3MHzでの動作を確認することができた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-10-17
著者
-
久保田 靖
シャープ株式会社モバイル液晶事業本部
-
小山 潤
株式会社半導体エネルギー研究所
-
李 副烈
シャープ株式会社
-
今井 繁規
シャープ株式会社
-
加藤 清
株式会社半導体エネルギー研究所
-
黒川 義元
株式会社半導体エネルギー研究所
-
李 副烈
シャープ数式会社
-
久保田 靖
シャープ数式会社
-
今井 繁規
シャープ数式会社
-
小山 潤
(株)半導体エネルギー研究所
関連論文
- 家庭の視聴環境に即した液晶テレビの最適表示輝度
- 液晶ディスプレイ
- 画像の超解像度化に関する検討 : ナイキスト周波数を超える周波数成分の再生(デジタル放送・デジタル設備,一般)
- nMOSレベルシフタ回路の性能比較(低消費電力回路,システムオンシリコンを支える設計技術)
- 製造ばらつきを考慮したDフリップフロップの性能評価
- パストランジスタ論理SPLとその設計事例
- 家庭の視聴環境に即した液晶テレビの最適表示輝度
- 小型LCD駆動回路用タイミングパルス生成回路の自動レイアウトシステム(性能及び製造性考慮物理設計,システムオンシリコンを支える設計技術)
- ポリSi TFTの過渡特性における自己発熱及びキンク効果の影響の分離評価
- CG Silicon TFTを用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFT を用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFT を用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFT を用いたガラス基板上のCPU開発(システムLSIの応用とその要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
- CG Silicon TFTを用いたガラス基板上のCPU開発
- Guest Paper 液晶パネル ガラス基板上に3MHz動作のMPUを形成--「システム液晶」の将来性を確認
- 製造ばらつきを考慮したDフリップフロップの性能評価
- CG Silicon TFTを用いたガラス基板上のCPU開発 (特集1 液晶要素技術)
- RI-002 非線形特性を応用した画像の超解像度化(グラフィクス・画像,査読付き論文)
- CGシリコン技術とそのディスプレイへの応用
- 液晶テレビの好ましい観視距離
- C-12-35 結晶性酸化物半導体(CAAC-IGZO)を用いたDRAMの応答速度(半導体メモリ,C-12. 集積回路,一般セッション)
- C-12-34 結晶性IGZO FETを用いた不揮発性FFとノーマリオフプロセッサ(LSIアーキテクチャ,C-12. 集積回路,一般セッション)
- C-016 結晶性酸化物半導体を用いて長時間のデータ保持が可能なレジスタを実装したプロセッサを用いた低電力システムの提案(LSI システムと設計技術,C分野:ハードウェア・アーキテクチャ)
- C-012 結晶性酸化物半導体トランジスタとSiトランジスタで構成されたメモリのノーマリオフコンピュータへの適用の可能性(LSI システムと設計技術,C分野:ハードウェア・アーキテクチャ)
- 3-4. 液晶ディスプレイ(3. 超高精細ディスプレイ,超高精細映像)
- 結晶性酸化物半導体とその情報ディスプレイへの応用(ディスプレイ材料・製造技術シンポジウム)