a-Si TFT/LCDの技術動向
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概要
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フラットパネルディスプレイの代表と目されている,非晶質シリコン薄膜トランジスタを用いた,アクティブマトリクス形液晶ディスプレイの現状とその問題点について述べる.ディスプレイパネルは現在30万画素をもつ10インチ級パネルが量産されているが,今後は更に大形化,高精細化が進む.100万画素を超えるパネルの生産も始まりつつある.こうしたすう勢の下で重要となる因子は設計面ではゲート線遅延と画素への信号電圧書込みおよび保持である.これらの因子に解析的検討を加えることにより,30インチ以上の大形化,ゲート線1000本以上の高解像度パネルが設計しうることを示す.設計面でもう一つ重要な因子は寄生容量C_<gs>であり,これは表示品質の劣化をもたらす.低減策について述べる.パネルの生産プロセスはコストへの直接的影響をもつ.歩留り改善に有効な手段としてゲート絶縁膜の2層化やA1ゲートTFT等について述べる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-05-25
著者
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