LSIの静電破壊因子とその新計測方法
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
微細化の進んだULSIでは, Human Body Model(HBM)やMachine Model(MM)と比較し,微少な電荷量と極めて短い時定数の放電特性を特徴とするCharged Package Model(CPM)やCharged Device Model(CDM)に基づく静電気障害対策が必要である. しかし, MMも含めCPMおよびCDMの破壊因子が不明確なことから, LSIの破壊耐量試験および製造フロアの静電気計測から得られる電気量が一致していない. また, CPMについては, 静電荷に誘導される動電荷が定量化されていない. 本論文では, MMとCDMの試験結果を再度検討し, LSIの基本素子であるPN接合とMOS素子の破壊因子が, 一定のエネルギーと一定の電荷量で表されることを示した. また, CPMに関しては, 過剰動電荷を定義し, 放電電荷量を導出した. CDMについても同様な取扱いができる. 更に, LSIの破壊因子は, 表面電位計やファラデーケージでは計測できないため, 動電荷量および対接地静電容量の計測が可能な新たな電荷量計測器を提案した. これをLSIのCDM試験および実際の製造フロアに適用したところ, 従来, 測定不可能であった高電位に帯電したLSIなどの静電容量と充電電荷量が容易に測定でき, LSIの静電破壊対策にとって極めて有効なデータが得られた.
- 1997-10-25
著者
関連論文
- 磁気転写特性に及ぼすマスター・スレーブ間スペーシングの影響(磁気記録)
- 磁気転写特性のスペーシング依存性
- 磁気転写特性のスペーシング依存性(記録媒体及び一般)
- 磁気転写特性に及ぼすマスター・スレーブ間スペーシングの影響
- 磁気転写特性に及ぼすマスター媒体構造の影響
- 磁気転写特性に及ぼすマスター媒体構造の影響(垂直記録,一般)
- 磁気転写特性のマスター磁性層厚依存性(磁気記録)
- 磁気転写特性のマスター磁性層厚依存性
- 磁気転写特性に及ぼすマスター媒体構造の影響(磁気記録媒体)
- パターニングされたマスター媒体により転写されたスレーブ媒体の磁化状態(垂直記録および一般)
- パターニングされたマスター媒体により転写されたスレーブ媒体の磁化状態
- 有限要素法を用いたフラックスガイド型半導体磁気抵抗素子の解析(薄膜)
- 磁性体ナノ接合部における磁壁構造の数値解析(磁性体物理・超伝導)
- 磁性体を組み合わせた半導体磁気抵抗素子
- 磁性体ナノ接合の磁化過程
- 強磁性ナノワイヤ構造の第一原理計算
- 磁気転写特性に及ぼすマスター媒体構造の影響
- MR2000-7 パターニングされたマスター媒体を用いた磁気転写
- パターニングされたマスター媒体により転写されたスレーブ媒体の磁化状態 : 磁気記録媒体
- パターニングされたマスター媒体により転写されたスレーブ媒体の磁化状態
- パターニングされたマスター媒体を用いた磁気転写
- パターニングされたマスター媒体を用いた磁気転写
- チタニルフタロシアニン蒸着膜の結晶性と光電導性に及ぼす基板温度の影響
- LSIの静電破壊因子とその新計測方法
- スレーブ媒体磁化困難軸方向に対するマスターパターンの傾きが磁気転写特性に及ぼす影響
- 蒸着テープの再生波形に及ぼすトラックエッジの影響
- 蒸着テープの再生波形に及ぼすトラックエッジの影響
- 垂直磁気記録媒体への磁気転写シミュレーション(薄膜)
- 磁気転写及びヘッド記録された媒体磁化の数値解析(磁気記録)
- 磁気転写用磁石の斜め方向磁場が転写特性に及ぼす影響(磁気記録)
- 半導体磁気抵抗効果を利用した再生ヘッド
- 半導体磁気抵抗効果を利用した再生ヘッド(記録媒体及び一般)
- リンとリチウムを共添加したZnSe薄膜のアクセプター準位
- 配列マイクロホンシステムによる音源位置推定 : タップ加算法による音像の改善