SOI(Si on Insulator)の現状と課題

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概要

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• SOI技術は既にSOSに始まる30年以上の研究開発の歴史がある。当初、主に、耐放射線素子として、軍、宇宙用に使用されてきたが、最近、SOI基板形成技術に大きな前進があり、更に、応用デバイスもパワーデバイス、センサー、アナログデバイス、ECL等の実用化に加えて、低消費電力という新たな視点を得て、携帯端末通信用素子、並びに演算素子やメモリー素子への民生応用展開が期待されている。本講では、まず最近、進展著しいSOI基板の現状と進歩を外観し、各手法の特徴を解説した上で、著者自身の考察を述べる。最後に日米韓を中心としたデバイス応用展開の開発状況に触れる。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1997-03-13

著者

• 米原 隆夫

  キヤノン株式会社

• 米原 隆夫

  キャノン株式会社デバイス開発センター

• 米原 隆夫

  キャノン株式会社、eltranプロジェクト

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