[招待論文]エキシマレーザによるSi薄膜の結晶化過程(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)

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概要

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• エキシマレーザによるSi薄膜の結晶化技術はアクティブマトリクス型有機ELディスプレイ、システムイン液晶など高付加価値ディスプレイを実現するコア技術として研究開発が盛んである。ここでは、エキシマレーザアニール技術において、大粒径化、配向制御された高品位な多結晶Si薄膜を得るためのベースとなる基礎的な結晶化過程について論じる。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 2003-04-07

著者

• 栗山 博之

  三洋電機株式会社,株式会社ジーティシー

• 栗山 博之

  三洋電機株式会社マルチメディアカンパニー

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