真空中のアーク現象および関連技術
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概要
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真空中のアーク現象(真空アーク)を利用した電力用真空開閉機器は保守の簡便性、防災面から広く用いられている。真空バルブ中のアーク現象は10kAを越える大電流領域では磁界で安定化されたアークが実験と理論の対応がつきつつある。10A程度のアークの不安定現象は陰極(輝)点のプラズマ側から逆拡散してくる電子が過剰になりイオンシースが存在しなくなることがその原因であると分った。遮断現象の研究はプローブ、レーザなどを用い、直接プラズマパラメータを計測する手法が広く用いられるようになった。真空アークを用いた薄膜プロセシング技術は陰極からの微粒子の飛来を防ぐ、FAD (Filtered Arc Deposition)が用いられるようになり活発な研究が行われている。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-06-18
著者
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