マスク法によるモードフィールド径測定方法
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概要
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単一モード光ファイバのモードフィールド径測定法の一つであるマスク法は,測定系が簡易に構成でき,小型化が可能という優れた特徴を有している.しかしながら,本測定法を実用化するのに必要なフィールドマスクの物理特性および現在,中継基幹回線に適用されている分散シフト光ファイバの測定についての詳細な報告例が少ないのが現状である.そこで,本論文では,マスク法に使用されるマスクに要求される物理特性について検討を行い,モードフィールド径理論測定誤差を1%以内とするには,マスクの減衰量が45dB以上必要であることを明らかにした.次に,所要減衰量に満たないマスクでもモードフィールド径が測定可能となる計算式を導出し,この計算式を用いることにより,1.3μm帯および分散シフト単一モード光ファイバのモードフィールド径を,遠視野界法との偏差1%以内で測定できることを明らかにした.また,本測定法を布設された光ファイバケーブルの遠端測定に適用した場合,最大45dBの光損を有する光ファイバケーブルのモードフィールド径測定が可能であることを明らかにした.
- 1994-03-25
著者
-
桑木 伸夫
東日本電信電話株式会社 技術協力センタ
-
吉田 幸司
Ntt技術協力センター
-
桑木 伸夫
NTT東日本技術協力センタ
-
清野 稔
Ntt技術協力センタ
-
桑木 伸夫
Ntt東日本 技術協力セ
-
桑木 伸夫
NTT技術協力センタ
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