スパッタ法によるac-PDP用保護層MgO膜
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概要
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現在、ac形プラズマディスプレイの保護層材料は一般に2次電子放出比が高く、耐スパッタ性に優れたMgOが用いられている。現在、保護層MgO膜は真空蒸着法によって形成されているが、製造行程の簡略化および大画面化を容易にするためには、スパッタリング法や厚膜印刷技術を用いたMgO膜の形成が必要である。本研究では、スパッタリング法を用いたMgO膜形成について検討し、そのMgO膜の膜構造をX線回析法によって解析した。また、試作パネルによる静特性の測定を行った。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
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