5-1 電子線縮小転写露光技術 : 5. ナノ加工・評価技術(<特集>ナノテクノロジーの光とエレクトロニクスへの応用)
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概要
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EPL(Electron Projection Lithography)Systemは次世代露光装置の中では実用化に最も近い装置である.電子線露光の高解像性と従来の電子線露光装置では達成できない高スループットに特徴がある.現在ニコンでEBステッパとして開発中のEPL systemは最終システム調整段階にある.70nmパターンを対象にしたR&D装置であるが,更に微細パターンも露光可能である.本稿においては,EBステッパの特徴を述べた後に,ナノテクノロジーを実現する量産露光装置としての展望・課題について述べる.
- 2002-11-01
著者
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