電子線縮小転写リソグラフィー技術の課題と展望(IT革命に向けたリソグラフィー技術論文<小特集>)

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概要

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• 70nm以降のリソグラフィー装置としていくつかの候補が挙げられている.その中でもEPL(Electron Projection Lithography)は最も実現に近い装置と考えられる.EPLは電子線縮小転写リソグラフィーの代表的なものであるといえるが, EPLの特徴は高解像にあり, また従来の電子線露光装置に比べて高スループットのポテンシャルを有する.ニコンは, 米国IBM社と共同開発により電子光学鏡筒の要素開発を終え, システム全体の開発中である.ニコンで開発中のEPL装置をEBステッパと呼んでいるが, ここではEBステッパの基本コンセプトを説明し, IBMにおいて開発されたPREVAILと呼ばれる転写露光実証機において露光されたパターンの例, またニコン独自に開発した100kV転写露光実験装置を用いて露光された例を紹介する.そしてシステム全体, 開発の促進, 技術課題, 今後の展望について報告する.

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 2001-12-01

著者

• 岡本 和也

  (株)ニコン精機カンパニー半導体露光装置事業部

• 山口 武

  (株)ニコン精機カンパニー半導体露光装置事業部開発統括部第二開発部

• 沖野 輝昭

  (株)ニコン精機カンパニー半導体露光装置事業部開発統括部第二開発部

• 鈴木 一明

  (株)ニコン精機カンパニー半導体露光装置事業部開発統括部第二開発部

• 河田 真太郎

  (株)ニコン精機カンパニー半導体露光装置事業部開発統括部第二開発部

• 河田 眞太郎

  ニコン

• 河田 真太郎

  (株)ニコン精機カンパニー半導体露光装置事業部

• 岡本 和也

  (株)ニコン 技術開発本部

• 鈴木 一明

  (株)ニコン

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