幾何光学的回折理論(GTD)を用いたマスク補助パタン設計法の提案
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概要
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フォトリソグラフィで用いられる投影露光法において,斜入射照明における矯正用付加パタンや位相シフト法における補正用補助パタンに対する設計方法を提案する。本設計法は,回折成分のみを取り出した像から逆に光線をたどる逆問題の考え方に基づく。回折光線の計算には,幾何光学的回折理論(GTD)を用いた。回折成分のみを取り出した像の形成を,理想像面からプラスまたはマイナスデフォーカスの位置において行ない,その像の電磁界成分の振幅と位相について複素共役としたものをマスク原パタンに対する補助パタンとしている。本設計法は,任意形状パタンに適用でき,かつ計算機の繰り返し評価が不安な一意的設計法である。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-09-13
著者
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