MW2000-26 / OPE2000-26 プラズマCVDによる多層薄膜光導波路の作製
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概要
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高屈折率と低屈折率の2つの異なった誘電体薄膜からなる多層薄膜構造は偏光子, 光波長合波分波フィルタやTEモードとTMモードを分離するためのモードフィルタ等の光デバイスに利用されている.これまでに筆者等は電子ビーム蒸着, イオンビームアシスト法を用いて強い閉じこめ構造の光導波路型デバイス, TiO_2/SiO_2による多層薄膜光導波路を作製し, モードフィルタ機能を持った3次元光導波路を検討してきた.今回はプラズマCVD装置を用いて高屈折率層として窒化シリコン膜(Si_3N_4), 低屈折率層として酸化シリコン膜(SiO_2)による交互積層構造の多層薄膜光導波路を作製するための最適作製条件を検討した.特に高屈折率且つ低損失の窒化シリコン薄膜を作製するためにSiH_4/NH_3系とSiH_4/N_2系による2種類のガス系に対して実験した結果, SiH_4/N_2系ガスによる窒化シリコン薄膜は低損失の光導波路となる見通しを得た.更に3次元光導波路を作製するために窒化膜, 酸化膜のプラズマ・エッチングによる条件について検討した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-06-23
著者
-
平岡 隆晴
神奈川大学工学部電子情報フロンティア学科
-
許 瑞邦
神奈川大学工学部電子情報フロンティア学科
-
穴田 哲夫
神奈川大学
-
許 瑞邦
神奈川大学 工学研究科
-
澤田 亮一
神奈川大学工学部電気電子情報工学科
-
大出 英長
神奈川大学工学部電気電子情報工学科
-
平岡 隆晴
神奈川大学 工学研究科
-
大出 英長
神奈川大学工学部
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