超伝導X線検出器用Ta/W/AlOx-Al/Ta/Nb接合の作成

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概要

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• Ta/W上部電極、Ta/Nb下部電極、AlOx-Alバリアからなる、0.3Kで動作する超伝導X線検出器用ジョセフソン接合を作成した。Ta層は準粒子寿命が永くX線吸収能が大きい理由で、準粒子生成層として選択した。W層はTa上部電極、Nb層はTa下部電極の立方晶形成のためのバッファ層として選択した。Al層はAlOxバリア形成のオーバーレイア及び準粒子収集層として作用する。作成したTa/W/AlOx-Al/Ta/Nb接合はリーク電流の小さな優れた素子特性を示した。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1995-07-26

著者

• 諸橋 信一

  (株)富士通研究所

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