並列マスクCADシステムの開発と実用化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
本論文では, LSIマスクパターン作成や超解像技術に要する計算処理時間を大幅に短縮するために開発・実用化した, 並列マスクCADシステムについて述べる.本システムは, マスクパターンがレイアウトされたLSIチップ領域を細かく分割し, 並列に処理する.提案する方式は, (1)分割した領域ごとの処理を独立に行うための境界パターン参照方式, (2)負荷分散に効果がある演算効率を最適化するための可変領域分割方式, (3)各プロセッサの稼動率を高めるためのデータ転送方式などである.これらの手法により, 本システムは, 10並列以上の高並列においても, プロセッサ台数に応じたリニアな高速化(並列効果)を得た.
- 2001-06-01
著者
関連論文
- 並列マスクCADシステムの開発と実用化
- SMPクラスタ向け並列処理実行環境の構築
- 100nm-node以降デバイスに向けたEB部分一括露光用データ変換システム(IT革命に向けたリソグラフィー技術論文)
- 超並列配線システム (先端技術--′92富士通総合展)
- 並列図形処理システム