100nm-node以降デバイスに向けたEB部分一括露光用データ変換システム(IT革命に向けたリソグラフィー技術論文<小特集>)
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概要
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本論文では, 100nm以下デバイスに向けて開発, 実用化したEB部分一括露光データ変換システムについて論じる.本システムの特徴は, 多様化するデバイス品種に対応させるための複数のブロックパターン抽出法を提案し, 階層最適化・抽出シミュレーションと組合せ自動化を図ったこと, また, 近接効果補正処理においては, 露光量の変化を考慮した再計算平滑化を並列処理で実現し実用時間内での露光補正を達成したこと, 更に, デバイス適用に不可欠な露光前チップ全面検証機能を装備していることにある.これらの機能により, 70nm-nodeのロジックゲート層の高スループットで高精度な露光データを実用的な時間で得ることができた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-12-01