細胞での高周波曝露における温度環境に関する検討
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概要
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我々は高周波の細胞生物学的影響を調べるために円筒導波管曝露装置を開発してきた.この装置を用いて熱作用以外のストレスに起因する熱ショックタンパクの発現について検討することを計画している.この目的のためには曝露装置の熱的環境について解析する必要がある.熱的環境については数値計算速度の改善のために陰的解法を用いた数値解析を行った.解析の結果1Wの入射電力で3000秒間の曝露を行った場合,最大約3.5度の温度上昇が培地底面で起こることが推測された.約3.5度の温度上昇では,熱ショックタンパクの発現が比較的少なく,1W以下の入射電力であればほとんど熱作用は観測されないと思われる.このように温度場解析を行うことにより,熱作用を最小限に抑え,非熱作用について検討を行うための曝露条件を設定することが可能である.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-06-23
著者
-
多氣 昌生
東京都立大学工学部電子情報工学科
-
鈴木 敬久
首都大学東京電気電子工学専攻
-
鈴木 敬久
東京都立大学大学院工学研究科
-
馬場 まどか
東京都立大学大学工学部
-
徳永 類
東京都立大学大学院工学研究科
-
馬場 まどか
首都大学東京大学院
-
多氣 昌生
東京都立大学 工学研究科 電気工学専攻
-
園田 知秀
東京都立大学大学院工学研究科
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