スリット方形導波管曝露装置についての温度場解析
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概要
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細胞用マイクロ波曝露装置における,容器内温度分布の時間的変化についての数値解析による検討を行なった.曝露装置は,導波管にスリットを設け,漏洩電磁界によって曝露する装置である.周波数2.45GHzの電磁波を使用し,細胞容器の底面のSARが最大約50W/kgのときの熱解析を行なった.解析条件として,まず曝露装置周辺の空気の温度を37℃に設定し,連続曝露した場合について解析を行った.結果は細胞位置の温度が39.5℃を超える結果となった.また,装置の周辺の空気を35℃に設定し解析をしたところ,細胞位置の培地の温度は38.0℃程度に収束した.このことから,細胞位置付近の温度を下げるためには,外気の温度をかなり下げる必要があることがわかった.また,装置周辺の温度が37℃である場合の連続曝露時の時定数が約900秒程度であったことから,これより十分短時間の間欠曝露では,熱環境が平均電力だけに依存すると考えてよいことがわかる.実際に,ミリ秒オーダでの間欠曝露の数値解析を行なった結果,デューティ比に関わらず,連続曝露の場合と熱的条件はほぼ等しいことが確かめられた.
- 2003-05-23
著者
-
多氣 昌生
東京都立大学工学部電子情報工学科
-
鈴木 敬久
首都大学東京電気電子工学専攻
-
和氣 加奈子
独立行政法人通信総合研究所
-
鈴木 敬久
東京都立大学大学院工学研究科
-
岡崎 洋一
東京都立大学院 工学研究科
-
和気 加奈子
東京都立大
-
徳永 類
東京都立大学大学院工学研究科
-
多氣 昌生
東京都立大学 工学研究科 電気工学専攻
-
和氣 加奈子
(独)情報通信研究機構電磁波計測研究センターemcグループ
-
和氣 加奈子
独立行政法人情報通信研究機構
-
和氣 加奈子
独立行政法人 情報通信研究機構
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