P-6 シリカフィラーの表面処理に関する研究(その9)
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概要
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これまでに, 演者らは, シリカ粒子表面に付着させたシラン処理剤の乾燥に伴うシラン分子間での縮合挙動ならびにシリカ表面へのシラン処理剤の吸着挙動をGPC法によって検討した.その結果, シリカ表面に付着しているシラン処理剤は乾燥時間の経過に伴い縮合が進行し, THFでリンスすると抽出されるシラン量はシラン分子がシリカ表面に化学吸着されるために減少する.しかし, 抽出されるシラン量は14日以降になるとほぼ一定になる^<1)>ことを報告してきた.本報告では, 固体高分解能CP/MAS NMRを用いて, シリカ表面に化学吸着しているシラン分子の^<29>Si NMRを測定し, シリカ表面へのシラン分子の吸着状態を調べ, 併せて力学的強さとの関係について検討した.
- 日本歯科理工学会の論文
- 1992-09-10
著者
-
西山 典宏
日大・松戸歯・歯科生体材料
-
根本 君也
日大・松戸歯・歯科理工
-
堀江 港三
日大・松戸歯・理工
-
深井 京子
日大・松戸歯・理工
-
伊藤 仁美
日本大学松戸歯学部理工学教室
-
根本 君也
日大・松戸歯・歯生材
-
西山 典宏
日大・松戸歯・歯生材
-
伊藤 仁美
日大・松戸歯・理工
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