ファンダメンタルパラメーター法による磁性薄膜の蛍光X線分析
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概要
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Co-Cr及びTb-Fe-Co系磁性薄膜の,ファンダメンタルパラメーター(FP)法を用いたXRFによる組成及び膜厚の同時分析法について検討を行った.XRFによる薄膜の分析は,従来の検量線法では多数の標準試料と煩雑な補正を必要としていたが,FP法を用いることにより数少ない標準試料で迅速な分析が可能となった.FP法では1点の標準試料で分析が可能であると言われている.しかし,未知試料を分析する場合,求めようとする組成及び膜厚の範囲で薄膜標準試料を数点準備することにより,1点の標準試料を用いた場合に対し,6倍以上の正確度の向上が可能であった.本法における各組成及び膜厚の繰り返し分析精度は,相対標準偏差で0.5%以下であった.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1989-10-05
著者
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