22pB9 複合拡散場中のひげ結晶の成長(気相成長IV)
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概要
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On the basis of that the surface of CVD Cu microcrystals reduced with H_2 are epitaxially covered with thin {111} CuX mm, a complex diffusion field model is applied to the morphological change of Cu microcrystals due to the species of reducing atmosphere.
- 日本結晶成長学会の論文
- 1999-07-01
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