Cu微結晶-表面ハライド膜の界面安定性 : 気相成長V
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概要
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Stability of thin halide films observed on the surface of Cu microcrystals is studied by using molecular dynamics (MID) method. According to the AFM observations, thin {111}α-Cul film freezes epitaxially from the melt at 923K, 67K above the melting point, on Cu {110}, suggesting that the presence of the film forms {110} and blocks the formation of {111} surfaces on Cu.
- 日本結晶成長学会の論文
- 1998-07-01
著者
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