Cuひげ結晶の二次成長と表面ハライド薄膜
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概要
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Atomic force microscopy(AFM)reveals{111}thin layer of the charge halide salt or the transport agent nas Cover ne surface of CVD Cu whiskers. In the AFM images the hights are often enhanced many times. The caliculation shows introducing Coulomb's potential the enhanced hights of images can be interprited. The contamination of probe tip can cause a localized electric charge such as a Cu ion on the tip. Cu whiskers show only surfaces without any low-misfit interfaces with{111}halide surface. These surfaces are{100}for whiskers grown from CuCl or CuBr, and{110} for ones grown from CuI.
- 日本結晶成長学会の論文
- 1997-07-01
著者
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