円板まわりの二次元電析に及ぼすイオンドリフトの影響
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概要
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This paper presents the experimental and simulation results for thin-layer electrochemical deposition around the circular plate. The effect of the ion drift on the electrochemical deposit is investigated by using the experimental method of electrodeless reduction of silver ions from a AgNO_3 aqueous solution. For comparing with the experiment, a Monte Carlo simulation is carried out for the two-dimensional thin-layer electrochemical deposit around the circular plate. The mass transfer (diffusion and electric migration) and the surface reaction are taken into account in this simulation. It is shown that the experimental growth process of the electrochemical deposit is consistent with the Monte Carlo simulation result.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 1998-07-25
著者
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