3p-E-11 選択配向した二次元結晶の回折強度
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1970-10-03
著者
関連論文
- 28a-E-13 アモルファスSiO_2の表面原子構造
- 3a-A-10 Si-As-Te系非晶質半導体の構造解析
- 25a-E-1 プラズマ化した超微粒子の電磁力による制御
- 31p-S-12 経路積分法による振動回転効果に考慮した2原子分子の密度行列について
- 1a-N-12 温度因子を考慮した微小結晶の回折線プロファイルII
- 6a-W-4 一般ペンローズ・パターンの構造因子
- 27a-A-5 1次元準結晶よりの回折強度
- 29p-KP-4 プロッターで作製した2次元格子の回折
- 3a-M-10 SCHERRER EQUATION の適用性 II
- 1a GK-1 SCHERRER EQUATIONの適用性
- 3p-AD-6 微小な層構造のLine Profile III
- 9p-Z-1 微小なLayer Structureの(hk)-Line Profile
- 5a-L-9 グラシーカーボンの構造 III
- 5a-L-4 超微細な粉末の回折強度
- 3a-A-8 微小な層構造のline profile II
- 13a-K-11 微小な層構造のline profile
- 3a-KE-10 グラシーカーボンの構想 II
- 5a-B-8 打切り誤差の補正法について
- 5a-B-7 グラシーカーボンの構造I
- 4a-P-11 選択配向した有限結晶の回折強度
- 3a-E-5 選択配向したTurbostratic 構造の回折強度
- 9a-D-3 選択配向した二次元結晶の回折強度 II
- 3p-E-11 選択配向した二次元結晶の回折強度
- 1a-TG-8 マイクロクリスタルの回折線プロファイル IV
- 8p-K-6 BaTiO_3単結晶のすじ状散漫散乱
- 5a-O-5 単結晶のX線,電子線回折に観察されるdiffuse streak pattern VI : BaTiO_3およびその他の場合
- 3p-W-7 イオン化原子による電子散乱-II
- 31p-LF-5 イオン化原子による電子散乱
- 氷結晶の疑似液体層のX線構造解析 : 結晶成長のその場観察III
- 31a-TJ-1 回転振動相互作用を考慮した回折強度式によるCsI高温気体の電子回折法による研究
- 30a-H-11 きわめて薄い非晶質SiO_2の構造 III
- 2p-N-10 SiO_2蒸着薄膜の構造
- 2p-N-9 a-Siの空気中酸化物の構造
- 2p-F-22 a-Siの酸化 IV
- 3a-M-3 温度因子を考慮した微小結晶の回折線プロファイル
- 3a-M-2 アモルファスSiO_2の長距離秩序
- 4a-A-9 a-Siの酸化II
- 1p-PS-15 a-Siの酸化
- 12p-D-12 非晶質シリコンの構造
- 27a-SB-5 非晶質シリコンの構造 I
- 2p-E-8 蒸着アモルファス・シリコンの構造
- 3a-S-9 セシウムフロライド高温気体の分子構造
- 非晶質Seの構造
- 5a-L-11 セシウムハライド高温気体の分子構造
- 8a-R-11 ナトリウム・ハライド気体のダイマー分子の構造
- 4a-A-1 高温電子回折用乾板
- 30p-W-1 高温電子回折用乾板の試作とその特性
- 非晶質炭素の熱処理による構造変化I : X線粒子線
- 3p-G-7 単結晶のX線・電子線回折のDiffuse Streak Pattern IX : シリコンのTAモードの解析
- 単結晶のX線・電子線回折のdiffuse streak pattern VIII シリコンによるX線の強度 : X線粒子線
- 電子線散乱と非晶質構造 (非晶質) -- (X線粒子線散乱と非晶質構造)
- 9p-N-5 マイクロクリスタルの回折線プロファイル III
- マイクロクリスタルの回折線プロファイルII : X線・粒子線
- マイクロクリスタルの回折線プロファイル : X線粒子線
- 3p-G-8 結晶外形因子に関する近似についてII
- 12a-H-12 結晶外形因予に関する近似について
- タイトル無し
- 30a-EB-6 きわめて薄い非晶質SiO_2の構造IV(X線・粒子線)