ポリベンゾオキサゾール前駆体中の塩素イオン濃度のコロージョンへの影響
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概要
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有機溶媒に可溶なポリベンゾオキサゾール(PBO)前駆体は, ベースモノマーとして, ビス(3-ヒドロキシ-4-アミノ)ジフェニルと, 2, 2'-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの混合物に, ジカルボン酸ジクロリドを加えて合成した。ゲル化防止などの目的で, 塩素を含む原材料を種々使用する。そのため, 不純物として多量の塩素イオンが含まれることがわかった。それが原因となって, 電子デバイスに使用される銅や銀などの金属部分にコロージョンを発生させた。種々の研究の結果, 大量の純水で精製することで, 塩素イオン濃度が500ppm前後となり, コロージョンの発生はなくなった。
- 社団法人エレクトロニクス実装学会の論文
- 2005-11-01
著者
-
池田 修
ソニー株式会社 マテリアル研究所
-
長谷川 匡俊
東邦大学理学部
-
伊藤 文就
ソニー株式会社コアコンポーネント事業グループコアテクノロジー開発本部コロージョン解析センター
-
長谷川 匡俊
Toho Univ. Chiba Jpn
-
伊藤 文就
ソニー株式会社 マテリアル研究所
-
池田 修
ソニー株式会社
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