30aPS-28 MBE法によるCuClナノ構造の成長条件とその光学特性II(領域5ポスターセッション)(領域5)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2004-03-03

著者

• 芦田 昌明

  阪大院基礎工

• 伊藤 正

  阪大院基礎工

• 石原 一

  阪大院基礎工

• Itoh T

  Kyosera Co.ltd.

• 長谷川 充

  阪大院基礎工

• 飯田 琢也

  阪大院基礎工

• 高田 真宏

  阪大院基礎工

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