3a-H-14 キュリー点近傍におけるNiの非線形磁化率

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1985-09-13

著者

• 谷口 哲

  室蘭工大

• 谷口 哲

  室蘭工業大学

• 近沢 進

  室蘭工業大学

• 相田 宏之

  室蘭工業大学

• 相田 宏之

  室蘭工業大学:古河電気工業

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