谷口 哲 | 室蘭工業大学

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概要

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• 谷口 哲

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• 谷口 哲

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• 永田 正一

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• 近籐 進

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• 有澤 広敏

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• 白根 崇

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• 尾籐 輝夫

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• 近沢 進

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• 相田 宏之

  室蘭工業大学

• 相田 宏之

  室蘭工業大学:古河電気工業

• 永田 正一

  室蘭工業大学応用物性学科

• 野崎 歩

  三菱電機材料研究所

• 荻野 雅毅

  室蘭工業大学応用物性学科

• 谷口 哲

  室蘭工業大学応用物性学科

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著作論文

• 5a-L-21 非線形磁化率による非晶質合金の磁気相転移に関する研究
• 3a-H-14 キュリー点近傍におけるNiの非線形磁化率
• 低温蒸着法によるAg, CuおよびPd薄膜の電気抵抗

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