29p-X-5 カルコゲナイド系非晶質半導体のガラス転移下の構造緩和における次元性と階層性

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概要

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• 1995-09-12

著者

• 新井 敏弘

  石巻専修大理工

• 大成 誠之助

  筑波大物工

• 新井 敏弘

  石巻専修大学理工学部電子材料工学科

• 松石 清人

  筑波大物工

• 新井 敏弘

  筑波大・物工

• 新井 敏弘

  石巻専修大学

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