露出セメント質に対するスケーリングおよびルートプレーニング前のレーザー照射の応用について
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概要
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困難な部位の補助的手段の一環として,あるいは露出根面に浸透したエンドトキシン不活性化を目的としてスケーリングやルートプレーニングという機械的操作の後にレーザー照射を行い,その露出根面について観察しできた.そこで,今回は,その操作の逆,すなわち,レーザー照射した後に,機械的操作を行ったものと,これまで行ってきた実験結果を,従前より行ってきた観察方法により比較検討した.その結果,X-ray microanalyzer,走査型電顕およびX線光電子分光分析法による観察では,表面の化学組成,形態あるいは存在元素の結合エネルギーは各実験群間において,大きな変化は認められなかった.しかし,接触角については,レーザー照射を行うことにより,レーザーの種類あるいはレーザー照射の後先には差はないものの,レーザー照射の有無あるいは照射量により差が認められ,レーザーを照射したりあるいはその照射量を増加すると疎水性となり,intact cementumの数値に近づくことが確認できた.
- 2003-12-25
著者
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