珪素酸化物をコーティングした Inconel 617 の不純ヘリウム雰囲気中での腐食挙動
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概要
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Inconel 617 samples were coated with silicon or silicon oxide SiO_X(0<X≨2) films by reactive magnetron sputtering method. The coated samples were corrosion-tested in an impure helium environment at 900 and 1000℃. The impure helium simulates the coolant gas of a high temperature gas cooled reacter now being developed in Japan. The SiO_X(X<2) films reacted with the substrate alloy, Inconel 617 at elevated temperatures. Silicon in the SiO_X films diffused into the substrate to form the carbide of (Si, Mo)_X C_Y・Nickel and Chromium in the substrate diffused into the SiO_X films to form silicides. The SiO_X(X<2) films exfoliated appreciably during the corrosion test and hardly protected the substrate against corrosive attack by the impure helium. Rather, SiO_X(X<2) films enhanced a carburization of Inconel 617 in the impure helium. On the other hand, the stoichiometric SiO_2 films had an excellelent protective effect in the impure helium at 900 and 1000℃. However, the protective effect of the SiO_2 film degraded a little at 1000℃. Inconel 617 was carburized and oxidized internally to form aluminum internal oxide-layer at 1000℃.
- 社団法人日本鉄鋼協会の論文
- 1985-08-01
著者
-
坂井 義和
金属材料技術研究所筑波支所
-
田辺 龍彦
金属材料技術研究所筑波支所
-
鈴木 正
金属材料技術研究所筑波支所
-
田辺 龍彦
金材技研
-
坂井 義和
金材技研
-
四竈 樹男
金属材料技術研究所筑波支所
-
鈴木 正
金材技研
-
坂井 義和
金属材料技術研究所強磁場ステーション
-
田辺 龍彦
金属材料技術研究所
-
四竈 樹男
金属材料技術研究所
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