HFおよびNH_4HF_2溶液による水晶のエッチングの速度
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概要
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Data are presented on the etching rates for the Z-and X-directions of α-quartz in 46% HF and 30% NH_4 HF_2 solutions between 20 and 60℃. Data on the roughness of the etched surfaces are also presented. It is shown that the strains introduced in the lapping procedure influence the etching rates for the Z-direction by the depth of several times of the mean radius of abrasive powder used. A discussion is given on the cause of high etch hillocks observed on the Z-surface etched in the HF solustion.
- 山梨大学の論文
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