光劣化した a-Si:H の高電界電子伝導
スポンサーリンク
概要
著者
-
中田 淳一
近畿大学理工学部電気工学科
-
土居 功年
近畿大学理工学部電気工学科
-
土居 功年
近畿大学
-
土居 功年
近畿大学理工学部
-
中村 晋一
近畿大学工学研究科
-
土居 功年[他]
近畿大学理工学部電気工学科
関連論文
- 半導体チップを担体とする薬物の放出制御
- シリコンチップを用いた薬物放出制御
- ガラス基板上のSi層へのエキシマレーザードーピング
- レーザー溶融法によるナノ微結晶Si薄膜の作製
- レーザーを用いた原子層エピタキシー
- 光劣化した a-Si:H の高電界電子伝導
- 外部シード固相エピタキシーにおける Si 表面の平担化処理効果
- morphology の異なる水素化アモルファスシリコン膜の光劣化と焼純
- Siウェハの少数キャリア寿命に対する酸化りんゲッタリングの効果 (記念号)
- 表面処理されたn形シリコンウエハーの少数キャリア寿命