Formation of WO_3 Reduction Coloring Thin Film Using a Combination Sputtering Method Featuring Radio-Frequency Oxygen Plasma Irradiation

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概要

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• 2011-05-20

著者

• NOGUCHI Daisuke

  都城工業高等専門学校物質工学科

• KAWANO Yoshihiko

  株式会社ホンダロック

• SEI Fumihiro

  株式会社ホンダロック

• FUKUDOME Shoji

  都城工業高等専門学校物質工学科

• SHIMONIIHARA Megumi

  都城工業高等専門学校物質工学科

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